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GE被美《R&D》雜志評為“全球最佳R&D公司”

2007-11-28 作者:壽川來源:《市場報》2007-11-28 第14版

    本報訊日前，美國權威科學技術雜志《R&D》雜志評選出全球十家“最佳R&D公司”，GE名列前茅。同時，GE還被選為“最成功應對人類科技挑戰的公司”，即在解決能源短缺、全球變暖、環境污染以及疾病防治等影響人類未來生存的重大問題方面最有成效的公司；在“研發人員最理想的工作之選”評選中，成為研發人員評價最高并且最向往加入的企業。該評選是由R&D雜志在今年9月份，通過對全球130家研發實力強大的公司在包括知識產權、社區服務、財務狀況在內的多項分析和讀者反饋調研得出的結果。
    GE公司高級副總裁Mark Little表示，本次評選是對于GE在研發方面努力的認可。在過去的10年，GE投資了上千億美元用于擴大在美國、歐洲及亞洲研發力量的建設和投入。GE公司在可再生能源、納米技術、生化科技、安防等技術的研發方面都做出了巨大的努力。今天，GE在全球擁有四個研發中心，分別設在美國紐約、印度班加羅爾、中國上海和德國慕尼黑。
    GE中國研發中心每年完成100多個研究項目，其中包括1/3左右的基礎科研項目。截至2006年底，GE中國研發中心共申請了200多項專利。

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